氣膜介電常數(shù)與供氣壓力的相關性實驗研究

　　基于電容法測量氣體靜壓導軌氣膜厚度的原理，進行供氣壓力與氣膜介電常數(shù)相關性的研究。實驗結果表明，環(huán)境條件不變的情況下，供氣壓力范圍在0.1～0.48MPa之間，氣膜介電常數(shù)與供氣壓力呈顯著負相關并符合4階多項式關系，擬合決定系數(shù)R2均大于0.94，該結果為氣體靜壓導軌氣膜電容模型的建立提供了依據(jù)。

　　超精密機床與加工技術是裝備制造業(yè)發(fā)展的要基礎技術之一，其中，軸系和導軌是其兩大核心技術。氣體靜壓潤滑技術具有運動平穩(wěn)、摩擦小和精度高等優(yōu)點，但在納米精度應用中，形成氣膜時在運動副偶件間易產生數(shù)十納米的隨機振動，此振動成為制約氣體靜壓導軌精度指標的重要因素。通過對氣膜厚度進行實時測量，采取相應措施使導軌在工作時氣膜厚度穩(wěn)定在這一范圍之內，能夠有效抑制導軌振動。

　　氣膜厚度測量屬于微小位移測量，從原理上講，測量方法主要分為光學法和電學法兩類。光學法對波長、光強等參數(shù)和測量環(huán)境等均有較高要求，并不適用于實際的氣體靜壓系統(tǒng)。考慮到氣膜兩個界面間的絕緣性處理得當，就相當于電容器的兩個極板，這樣，就可以應用平板電容測量原理獲得氣膜的厚度值。

　　影響電容器介電常數(shù)的外部非電氣因素主要有溫度、濕度、光照強度和使用時間等，內部因素則包括正對面積S、極板間距離d，以及氣膜介電常數(shù)ε。對于氣體靜壓系統(tǒng)，供氣壓力是影響介電常數(shù)的主要內部因素，對其影響的探究卻鮮有介紹，由于介電常數(shù)影響氣膜電容模型的建立，故需通過實驗來研究供氣壓力與氣膜介電常數(shù)的相關性。

1、電容式測量氣膜厚度的原理

　　電容式測量氣膜厚度的原理是利用電容測量設備測量氣體靜壓導軌工作時節(jié)流器與導軌工作面之間的電容量，通過數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)計算氣體靜壓導軌氣膜厚度以及氣膜剛度。電容式測量方法原理圖如圖1所示。

圖1 電容式測量方法原理圖

　　將壓強為0.1～0.5MPa的壓縮空氣經(jīng)過節(jié)流孔送入氣體靜壓導軌的間隙中，借助其壓力使氣體靜壓導軌節(jié)流器懸浮起來，節(jié)流器與導軌工作面之間形成一層氣膜，實現(xiàn)節(jié)流器的純氣體摩擦的直線運動。

　　如圖1所示，節(jié)流器工作面為平面，節(jié)流器與電容測量儀的一個測量端口相連接，氣體靜壓導軌工作面連接電容測量儀的另一個測量端口，電容測量儀可測得節(jié)流器與氣體靜壓導軌工作面之間的電容C。根據(jù)平板電容器的原理，節(jié)流器與氣體靜壓導軌工作面可看作電容器的兩個極板，根據(jù)電容的基本公式，計算平板電容C為：

C = εS /d

　　式中：ε為氣膜介電常數(shù);S為兩個極板正對的面積;d為兩個極板間的距離，在本文中相當于氣膜厚度。當氣膜厚度d變化時，電容會相應地發(fā)生改變。當測量得到某氣膜厚度下節(jié)流器與氣體靜壓導軌工作面之間的電容時，根據(jù)式(1)可得到連續(xù)氣膜厚度的電容變化曲線。

　　電容式測量氣膜厚度不僅能測量簡單的平面節(jié)流器，對于工作面不是平面的情況，通過建立節(jié)流工作面的數(shù)學模型，同樣可以利用此方法測量氣膜厚度。

　　在上述介紹的電容式測量原理中，假設氣膜介電常數(shù)ε是定值(取常溫、常壓下空氣介電常數(shù))，對其在實驗過程中的變化不予考慮，但在實際應用中，ε受眾多因素的影響，如溫度、濕度、光照強度、材料和供氣壓力等，故需對ε的變化進行研究。

2、電容式測量氣膜厚度的實驗方法與裝置

　　研究供氣壓力對電容值影響的直接方法就是控制氣膜厚度為定值，改變供氣壓力，讀取相應的電容值。但在實驗中，當供氣壓力增大時，節(jié)流器初始彈起氣膜厚度值變大，用機械法使氣膜厚度減小存在一定的回程誤差，故在實驗中采用間接測量法，按照上述氣膜厚度的電容測試方法得到原始數(shù)據(jù)后，取相同氣膜厚度時，以不同壓力下對應的電容值作為zui終數(shù)據(jù)。相對介電常數(shù)εr的定義為：

εr=ε/ε0(2)

　　式中：ε0為真空介電常數(shù);εr為相對介電常數(shù)，是無量綱數(shù)值，zui小值為1，據(jù)此可以判斷實驗數(shù)據(jù)是否合理。